聚甲基苯乙烯/聚丙烯酸甲酯嵌段共聚物的活性聚合研究开题报告

1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

文 献 综 述1.概述1.1嵌段共聚物的定向自组装 1.1.1光刻技术简介　光刻技术是在集成电路制造中利用光学化学反应和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上来形成功能图形的工艺技术。

纳米技术的发展离不开我们对于高分辨率光刻技术的不断探索[1]。

特别是面对微电子工业领域向小尺寸、高密度方向发展的趋势，传统的自下而上方法如光刻蚀、电子术刻或微压印技术等已不能满足人们的需求，新兴的自下而上方法如分子自组装技术等突破了传统的局限，能够在分子尺寸上构筑纳米器件，日益受到重视[2]。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

1 研究内容通过阴离子活性聚合的方法合成一种基于聚α-甲基苯乙烯/聚丙烯酸甲酯的新型嵌段共聚物，调控其嵌段结构，研究活性聚合方法对化学结构的调控，研究嵌段组成对热退火形成纳米结构的影响规律。

2 研究手段红外测试（ftir）：初步判断共聚物所含基团；核磁共振氢谱（1h nmr）：定量判断嵌段共聚物的组成；凝胶渗透色谱（gpc）：确定分子量大小和分子量分布。

3 实验方法简介（1）组装反应装置，向反应器中加入thf和licl，搅拌溶解后将反应器浸入冰浴中，待温度稳定，进行三次抽真空氮气置换。