硅烷偶联剂KH550与KH560共混改性增强 SiO2光子晶体薄膜强度开题报告

1. 研究目的与意义（文献综述包含参考文献）

文 献 综 述前言光子晶体因介电常数具有空间周期性而具备类似于半导体材料的能带和禁带，且禁带性质与光子晶体中介质材料的折射率有着密切的关系，于是科学家们便开始尝试在光子晶体中掺杂不同折射率的响应材料，但制备过程中的条件控制却成为了发展过程中亟待解决的问题。

1 光子晶体人眼接受到外界的颜色信号，这一过程的起始是颜色的产生。

对于常见的非自发光材料，颜色的产生机制分为两类，部分材料中的光子和电子在相互作用的过程中吸收外界辐射的部分光谱后反射出有色光；另一种是外界辐射的光线与材料的结构发生作用，使光线发生反射或折射。

2. 研究的基本内容、问题解决措施及方案

研究的问题：本课题将硅烷偶联剂kh550，kh560共混对制备的sio2光子晶体薄膜进行改性，提升sio2光子晶体薄膜的表面强度。

通过控制kh550，kh560在共混反应过程中的摩尔比与质量浓度，提拉过程中的浸泡时间三个参数来研究不同反应条件对sio2光子晶体薄膜硬度及光学性能的影响，从而寻求最佳的工艺参数。

研究手段：以改进的stober法合成纳米sio2，接着通过涂布法制备sio2光子晶体薄膜。